真空裝置有兩種密封條件。一種是密封件將裝有液體介質的容器與外部真空空間隔開。在這種情況下，密封件的主要功能是防止液體介質泄漏到真空空間中。在另一種情況下，密封件將真空內腔與外腔分開，其作用是保持所需的真空度。這種情況比較復雜，因為即使周圍的氣體介質稍微漏進真空室，其真空度也會降低。如果腐蝕性氣體泄漏，真空設備可能會損壞。在許多情況下，真空度和真空空間的清潔度對真空條件下各種工藝過程的質量有決定性的影響。真空設備中使用的赫山機械密封的結構沒有什么特別之處。對于上述情況，通常采用氣密性好的金屬波紋管式單端赫山機械密封。第二種情況，應采用雙端赫山機械密封。如果使用單端密封，必然會出現密封端面無法潤滑的問題。

　　赫山機械密封沖洗水壺主要有兩種方式：內部沖洗和外部沖洗。以下是用赫山機械密封沖洗水壺的共享方式：

　　一、內部沖洗

　　1、是沖水

　　(1)特點：主機的密封介質通過管道從泵的出口端引入密封腔。

　　(2)應用：對于清洗液，p1略大于P入口。當溫度高或有雜質時，可在管道上設置冷卻器和過濾器。

　　2.反流

　　(1)特點：主機的密封介質從泵的出口端引入密封腔，沖洗后通過管道流回泵入口。

　　(2)用途：用于清洗流體，P進入

　　3.全沖洗

　　(1)特點：利用主機的密封介質，通過管道從泵的出口端引入密封腔，沖洗后通過管道流回泵入口。

　　(2)應用：冷卻效果好于前兩者，用于清洗流體，p1接近P入P出。

　　二、外部沖洗

　　特點：將外部系統中與密封介質相容的清洗液引入密封腔體進行沖洗。

　　用途：外部沖洗液的壓力應比密封介質的壓力高0.05-0.1兆帕，適用于介質為高溫或固體顆粒的場合。沖洗液的流量應保證帶走熱量，滿足沖洗需要，使密封不受侵蝕。因此，需要控制密封腔的壓力和沖洗的流量，清洗沖洗液的流量一般應小于5m/s；含顆粒的漿液應小于3m/s，為達到上述流量值，沖洗液與密封室壓力之差應為